长周期稳定运行，溅射源选型的关键考量

在高真空、超高真空工况下，溅射源的密封性能与污染防控能力，直接决定最终薄膜成品质量。PVD Products 自研的 Titan 系列磁控溅射源，采用真空钎焊工艺一体成型，实现无泄漏无污染密封结构。该设计彻底杜绝冷却水渗入真空腔体的风险，同时将磁体组件与水冷系统物理分离，从源头规避冷却液渗漏造成的基底污染问题。

Titan 系列拥有 1 英寸至 4 英寸全规格产品，可适配不同尺寸真空腔体与各类基底。模块化的设计理念，允许设备集成商、科研单位根据工艺需求，自由搭配溅射源数量与安装布局，在多层膜沉积、梯度材料制备中展现出极强的工艺适配性。

该系列产品已在美国国家标准与技术研究院、麻省理工学院等顶尖机构实验室落地应用。依托双方合作关系，科睿设备有限公司可提供全规格 Titan 溅射源现货供应、现场替换、集成改造等服务，满足国内用户设备升级、配件更换的各类需求。50% 业务来自复购客户，充分印证产品长期运行的稳定性与完善的技术服务能力。

目前品牌设备业务已覆盖美国、中国等全球核心市场，应用场景涵盖高校前沿研究、半导体工艺验证、超导材料量产等多个领域。作为长期战略合作伙伴，科睿设备有限公司全面承接 PVD Products 在国内的业务对接，从麻省理工学院的复杂氧化物基础研究，到国内高校、企业的新材料研发与产业化落地，双方携手将国际前沿的磁控溅射技术引入国内市场，持续推动国内薄膜沉积、高温超导、半导体等相关产业高质量发展。